В эпохальном нововведении для глобальной полупроводниковой отрасли компания Multibeam Corp. представила платформу MB — новаторскую систему многоколоночной электронной束-литографии (MEBL), предназначенную для повышения процессов производства чипов. Эта инновационная литографическая система жизненно важна для точной печати узоров на чипах и адаптирована для массового производства. Ее полностью автоматизированная и высокоточная технология шаблонной печати поддержит такие приложения, как быстрое прототипирование, передовая упаковка, производство с высокой смешиваемостью, идентификация чипов и соединенные полупроводники.
Основатели Multibeam описывают эту технологию как сочетание скорости печатного станка и гибкости карандаша, готовой изменить процесс проектирования чипов. Первая система будет передана компании SkyWater Technology, которая использует ее для раннего прототипирования концепций и быстрого производства микрочипов. Дэвид К. Лам, генеральный директор и председатель Multibeam, и Кен МакаУильямс, президент Multibeam в Санта-Кларе, Калифорния, подчеркнули в интервью, что этот заказ подтверждает готовность Multibeam к революции в изготовлении чипов.
Лам, новатор в области производства полупроводников, отметил, что технологии Multibeam могут увеличить продуктивность производства чипов в 100 раз по сравнению с существующими системами. Он и МакаУильямс стремятся продлить закон Мура, согласно которому количество компонентов на чипе удваивается примерно каждые два года — принцип, который стал основой технологических достижений со времен предсказания Гордона Мура в 1965 году.
Эволюция закона Мура, который значительно снизил размеры чипов и увеличил их производительность, столкнулась с проблемами, поскольку более простые методы достигли предела. В результате производители чипов сейчас исследуют инновации в 3D-упаковке для улучшения производительности и более быстрых соединений; однако это приводит к увеличению размеров чипов и строительству дорогих заводов, стоимость которых может превышать 20 миллиардов долларов.
Новая платформа Multibeam значительно улучшает технологию электронной束-литографии (EBL), внедряя новаторскую архитектуру с несколькими миниатюрными колонками, работающими параллельно, что обеспечивает более чем 100-кратную пропускную способность по сравнению с традиционными системами EBL. Это достижение ставит платформу MB на передний план как наиболее продуктивную систему безмасочной литографии, позволяя производителям быстро разрабатывать и выводить на рынок новые дизайны интегральных схем (IC).
Разработанная командой экспертов по оборудованию для полупроводников за семь лет, платформа MB является первой системой EBL, спроектированной специально для массового производства и представляет собой значительный прогресс в американском секторе литографии amid повышения геополитической конкуренции.
Лам выразил восторг от запуска платформы MB и её способности способствовать инновациям на различных рынках, особенно в быстроразвивающихся сферах ИИ и периферийных вычислений. Платформа MB дополняет существующие литографические решения для лидеров интегральных схем, позволяя ускорять циклы обучения и эффективно переходить к производству.
Пока Multibeam переходит от стадии разработки к высокопродуктивному производителю систем многоколоночной электронной束-литографии, платформа MB устраняет ограничения традиционной EBL, предлагая гибкое решение без использования масок, подходящее для новых приложений.
МакаУильямс отметил, что это нововведение позволяет значительно улучшить передовую упаковку и способствует созданию новых межчиповых соединений, сопоставимых с внутрипроцессорными соединениями, формируя сдвиг в индустрии к тому, что называется «продвинутой интеграцией».
Платформа MB защищена более чем 40 патентами и спроектирована для массового производства с нуля. Она оснащена автоматизированным процессом загрузки и выравнивания подложек, что повышает продуктивность и точность. Возможности безмасочной литографии платформы позволяют быстро проводить итерации дизайна, значительно сокращая сроки разработки и затраты по сравнению с оптической маской.
Внедрив технологии от Synopsys, платформа генерирует точные рецепты записи, позволяя дизайнерам создавать сложные узоры непосредственно на подложках, дополнительно оптимизируя гибкость дизайна. Ее компактные размеры также способствуют снижению потребности в энергии и площади помещений, и она доступна в конфигурациях 150 мм, 200 мм и 300 мм.
С платформой MB Multibeam готова установить новый стандарт в производстве чипов, гарантируя будущее, в котором передовые литографические технологии обеспечивают непрерывные инновации в полупроводниковой отрасли.
Рейтинг
