Multibeam首次发布业界首款多列电子束光刻芯片技术

Home Hardware CN Multibeam首次发布业界首款多列电子束光刻芯片技术

在半导体行业的一项重大进展中，Multibeam公司推出了MB平台，这是一款开创性的多柱电子束光刻（MEBL）系统，旨在提升芯片制造流程。这个创新光刻系统对于在芯片上精准印刷图案至关重要，特别适用于大规模生产。其全自动的精密图案技术将支持快速原型开发、先进封装、多样化生产、芯片识别以及复合半导体应用。

Multibeam的创始人将这项技术形容为印刷速度和铅笔灵活性的完美结合，将重新定义芯片设计印刷。首台系统将交付给SkyWater Technology，该公司将利用这项技术进行概念原型开发与快速微芯片生产。Multibeam的首席执行官兼董事长大卫·K·蓝姆和公司在加州圣克拉拉的总裁肯·麦克威廉斯在媒体采访中强调，这笔订单证明了Multibeam改变芯片制造的准备。

作为半导体制造领域的先驱，蓝姆指出，Multibeam的技术可以使芯片制造效率提高100倍，相较于现有系统。他与麦克威廉斯承诺延续摩尔定律，这一原则认为芯片上的元件数量每两年约翻一番，自1965年戈登·摩尔提出以来，推动了技术进步。

摩尔定律的演变在减小芯片尺寸和提高性能方面取得了重大成就，但在一些简化方法达到瓶颈后却面临着挑战。因此，芯片制造商开始探索3D封装的创新，以实现更好的性能和更快的连接。然而，这导致了更大设计和建设高达200亿美元的芯片工厂的需要。

Multibeam的新平台通过采用多个并行的小型柱体，显著提升了电子束光刻（EBL）的产能，产量超过传统EBL系统的100倍。这使MB平台成为可用的最高生产力、无掩模光刻系统，帮助制造商快速开发和推向市场新的集成电路（IC）设计。

经过半导体设备专家团队七年的研发，MB平台是首个专为高产量生产而设计的EBL系统，在美国光刻行业的竞争激烈情势下，代表了重要的技术进步。

蓝姆对MB平台的推出感到兴奋，认为它能够促进多个市场的创新，尤其是在人工智能和边缘计算迅速发展的背景下。MB平台与现有的集成电路光刻解决方案相辅相成，允许快速学习和高效过渡到生产。

随着Multibeam从开发阶段转变为多柱电子束光刻系统的高产制造商，MB平台解决了传统EBL的局限性，提供了灵活的、无掩模的解决方案，适用于新兴应用。

麦克威廉斯指出，这一创新实现了先进封装的显著提升，并促进了新型芯片间互联的发展，这种互联速度可与片上互联媲美，从而推动行业向“先进整合”的转型。

MB平台受40多项专利保护，从基础上设计为适合大规模生产。它配备了自动化的晶圆加载和对准流程，提升了生产效率和准确性。平台的无掩模光刻功能允许快速设计迭代，相较于光学掩模开发，显著缩短了开发周期和降低了成本。

MB平台结合了Synopsys的技术，生成精确的写入配方，允许设计师在晶圆上直接创建复杂图案，进一步提升设计灵活性。其紧凑的布局也有助于降低电力需求和减少设施空间需求，支持150mm、200mm和300mm的多种配置。

通过MB平台，Multibeam准备为芯片制造树立新的标杆，确保未来的先进光刻技术推动半导体行业的持续创新。

三星启动AI设备应用内存芯片的大规模生产

量子机器在以色列开设前沿量子计算中心

Most people like

ContentFries

145.6K

利用ContentFries应用程序，将视频轻松转化为引人入胜的内容，以促进受众增长和品牌建设。

内容再利用 AI改写助手

Mercor

146.8K

AI平台在人才筛选、审核和支付方面正发挥越来越重要的作用。通过智能化技术，这些平台能够高效地评估候选人的资格与能力，同时简化支付流程。

人工智能招聘平台人工智能面试助手

moveme.tv

132.1K

moveme.tv利用先进的人工智能技术，根据用户的心情，精确地推荐适合的电影，帮助您在众多流媒体服务中寻找到完美观影选择。

电影其他

VectorMind - Generative AI for Vector Graphics

24.4K

探索用于创建矢量图形的AI工具，这些创新工具正在彻底改变设计行业。通过利用人工智能技术，您可以轻松生成高质量的矢量图形，提升创作效率和设计灵感。无论您是专业设计师还是业余爱好者，这些AI工具都能为您的工作带来全新的可能性。

矢量图形 AI 设计生成器

Find AI tools in YBX